冰噴射的一項創(chuàng)新應(yīng)用是在制造過程中對零件進(jìn)行去毛刺和去污處理。該工藝對鋁和黃銅等軟金屬有效，但也可以去除鋼和鐵的毛刺，具體取決于直徑大小及其與零件的粘附強(qiáng)度。噴冰也已成功應(yīng)用于聚乙烯和聚丙烯等非金屬材料，但工藝參數(shù)仍需要針對該應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化。復(fù)雜零件容易去毛刺，大大小小的毛刺都能去除。小毛刺通常難以去除，因為它們的前部面積小且基臺長。經(jīng)冰刀去污、去毛刺后，零件表面可保持光潔光滑。與大多數(shù)金屬部件一樣，零件在去毛刺步驟后應(yīng)立即干燥，以防止腐蝕、氧化和生銹。

一種使用直徑為 0.1-300μm 的超凈薄冰對半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行去污的方法。通過調(diào)節(jié)冰粒硬度、射流壓力和射流角度來控制對晶圓表面的影響。它可以準(zhǔn)確地去除晶圓表面的亞微米顆粒（直徑<0.3um）和有機(jī)污染物，如指紋、油脂和油性墨水。這種去污方法經(jīng)過改進(jìn)，增加了一個加速冰射流的機(jī)構(gòu)，這些電極由高頻交流電源連接，每個電極在冰粒運(yùn)動方向上的長度是可調(diào)的。

根據(jù)冰粒的速度進(jìn)行調(diào)整，去污方法的另一種改進(jìn)是使用含有過氧化氫的冰粒，用從融化的冰粒-H2O2混合物中得到的H2O2溶液對表面進(jìn)行物理和化學(xué)去污。

許多研究使用冰噴霧去污方法對晶圓進(jìn)行去污，并評估了去污過程的主要變量對去污效率的影響。冰粒去污效率達(dá)95%以上。去污效率受顆粒的質(zhì)量濃度、腔室壓力以及噴嘴與基板之間的距離的影響。

冰噴射已成功用于去除計算機(jī)硬盤驅(qū)動器上的污染物。將硬盤表面涂漆，然后用直徑為0.5~3mm的冰粒以35g/min的冰流量在硬盤表面噴灑2分鐘。去污后硬盤工作正常，硬盤上的音頻文件聲音沒有變化。其他示例包括液晶顯示器、電路板、太陽能電池板組件、光學(xué)組件的放大鏡的去污，以及從薄膜表面到基底的去污，這些去污在去除污漬后在表面的目測或顯微鏡檢查中未觀察到。